1、設置系統適用性試驗的目的是什么？

對分析設備、電子設備、試驗操作和被分析樣品組成的完整的系統進行評估。根據被論證的方法類型，對某一特定的方法建立系統適用性參數。

2、如何設計系統適用性要求？

2.1評價指標

分離度、靈敏度、進樣精密度、理論塔板數，有的包括主峰時間、出峰順序。

2.2評價對象：系統適用性溶液+靈敏度溶液。

2.2.1系統適用性溶液制備

（1）雜質對照品+供試品

優點：配制過程相對簡單，雜質水平設計空間較大。

缺點：需要使用雜質對照品，對制備困難的雜質對照品成本較高。

（2）對照品或供試品破壞

優點：無需使用雜質對照品，減少對照品制備成本，特別是對制備比較困難的雜質對照品

缺點：配制過程較復雜，要求破壞條件穩定和好重現；要求破壞后產生的雜質譜能有效評價適用性指標。

（3）對照品或供試品破壞+雜質對照品

優點：減少了降解雜質對照品的制備成本。

缺點：配制過程復雜。

2.2靈敏度溶液制備：一般是有關物質對照品溶液的1/10-1/50，供試品溶液的0.05%-0.1%。

2.3基本原則

（1）以最難分離的相鄰雜質分離度為指標；

（2）靈敏度溶液信噪比大于10；

（3）對照品溶液進樣精密度RSD不大于2.0%或1.5%，濃度較低的對照品溶液進樣精密度RSD可以放寬；

（4）必要時規定主峰時間和出峰順序。

3、某原料藥有關物質系統適用性試驗制定過程

3.1系統適用性溶液制備

（1）采用“雜質對照品+供試品”方式制備；

（2）分析實際存在的合成工藝雜質和降解雜質（包括大于報告限度并小于鑒定限度的未知雜質）；

（3）每日最大劑量小于2g，添加雜質水平設計為0.2%；

（4）配制過程：

各雜質貯備液：制成每1ml含雜質Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ、A、B、C、D、E、F各0.2mg溶液；

系統適用性溶液：稱取API約10mg置于10ml量瓶中，加各雜質貯備液100μl，再加適量稀釋劑使溶解并稀釋至刻度，搖勻，即得。（雜質水平約0.2%）；

靈敏度溶液：系統適用性溶液稀釋2000倍，制成每1ml含API約1μg溶液（0.05%供試品溶液濃度）。

3.2不同耐用性條件下系統適用性溶液

（1）不同pH值影響

（2）不同儀器和色譜柱影響（pH3.5）

3.3系統適用性要求制定

基于3.2可知，該有關物質檢測方法中主峰和已知雜質與相鄰雜質峰之間的分離受流動相pH值以及儀器或色譜柱批次影響明顯。分離難點為主峰與相鄰雜質峰（雜質C與未知雜質），雜質A與雜質B，雜質Ⅲ與相鄰雜質（未知雜質或雜質F）。另外，雜質A與雜質B在異常pH條件下也會出現前后出峰顛倒的現象。

故該方法系統適用性要求，系統適用性溶液色譜圖中，出峰順序依次為雜質D、雜質C、API、雜質E、雜質A、雜質B、雜質Ⅱ、雜質Ⅰ、雜質Ⅲ和雜質F，各色譜峰與相鄰雜質峰之間分離度應滿足要求（包括主峰與相鄰峰之間分離度不小于1.5，各已知雜質與相鄰峰之間分離度不小于1.5）。靈敏度溶液色譜圖中，主峰信噪比不小于10。