2025年3月17日，國家藥品監(jiān)督管理局（NMPA）發(fā)布了《藥品生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范（2010年修訂）》無菌藥品附錄（征求意見稿），征求意見的截止日期是2025年5月30日。本文以國內(nèi)發(fā)布的征求意見稿為基礎，對比和PIC/S無菌附錄的異同。

整體對比

對比的異同分為4個結(jié)果：

內(nèi)容一致，表述相同或略有差異：表達的內(nèi)涵一致；

內(nèi)容基本一致，詳略程度有差異：中國和PIC/S的整體要求一致，但在詳略程度上可能有差異；

要求不同：針對同一話題，中國和PIC/S的要求有差異；

中國特殊要求：僅中國要求，而PIC/S未做明確說明；

請注意：本文僅對比無菌附錄的相關(guān)要求，未拓展至相關(guān)指導原則，如NMPA 無菌工藝模擬試驗指南（無菌制劑）對APS給出了詳細指導。

各章節(jié)整體的對比結(jié)果如下：

各章節(jié)主要差異

第一章  范圍

不同要求：征求意見稿本章節(jié)未做修改，PIC/S無菌附錄適用于所有無菌產(chǎn)品，而中國無菌附錄因為有藥品的限制，不涵蓋輔料、內(nèi)包材等，征求意見稿在附則中提到，無菌輔料和直接接觸藥品的無菌包裝材料等無菌產(chǎn)品的生產(chǎn)應當參照本附錄執(zhí)行。

第二章  原則：

對應PIC/S無菌附錄的第2和第3章，多數(shù)條款一致。

內(nèi)容基本一致，詳略程度有差異：本章節(jié)中，PIC/S無菌附錄對CCS的要素描述更為詳細，如PIC/S強調(diào)CCS的開發(fā)需要詳細的技術(shù)和工藝知識，具體的CCS要素中，國內(nèi)用詞為糾正措施和預防措施，PIC/S表述為預防機制 - 趨勢分析，詳細調(diào)查，根本原因確定，糾正和預防措施（CAPA）以及對綜合調(diào)查工具的需求。

第三章  廠房與設施~第五章  公用系統(tǒng)

對應PIC/S無菌附錄的第4章~第6章，要求上沒有明顯不同。

第六章  人員

對應PIC/S無菌附錄的第7章。

征求意見稿的特殊要求：1. 無菌藥品生產(chǎn)企業(yè)的生產(chǎn)管理負責人、質(zhì)量管理負責人、質(zhì)量受權(quán)人的資質(zhì)—與《國家藥監(jiān)局關(guān)于加強藥品上市許可持有人委托生產(chǎn)監(jiān)督管理工作的公告（2023年第132號）》一致，要求具有至少五年從事藥品生產(chǎn)和質(zhì)量管理的實踐經(jīng)驗，其中至少三年無菌藥品生產(chǎn)和質(zhì)量管理的實踐經(jīng)驗；2. 中國要求未經(jīng)培訓的外部人員進入潔凈區(qū)均需要進行詳細指導和監(jiān)督，而PIC/S僅對未經(jīng)資質(zhì)確認的人員進入無菌生產(chǎn)區(qū)進行了要求。

第七章  潔凈區(qū)的確認和監(jiān)測

與PIC/S無菌附錄相比，本章節(jié)將原屬于第4章和第9章中關(guān)于潔凈級別確認和環(huán)境監(jiān)測的內(nèi)容整合到了一起，絕大多數(shù)條款與PIC/S保持了一致，包括環(huán)境監(jiān)測的標準等，需要注意的一點是，中國要求A級或B級潔凈區(qū)檢測到的微生物應當鑒定到種。

第八章  生產(chǎn)管理

對應PIC/S無菌附錄的第8章和第9章，將無菌工藝模擬試驗（APS）的內(nèi)容也整合進來。

不同要求：本章節(jié)提出了對污染控制策略（CCS）的一般性要求，保留了原附錄中關(guān)于無菌藥品批次劃分、最終滅菌產(chǎn)品的生產(chǎn)操作環(huán)境示例的描述，另外需要注意的是，本次征求意見稿對A級送風環(huán)境提出了明確要求，即應當至少符合A級區(qū)的靜態(tài)要求；APS方面，征求意見稿中未加入“除非有意模擬厭氧，否則需要用空氣代替日常無菌生產(chǎn)工藝所用的任何惰性氣體。在這些情況下，應考慮將偶爾的厭氧模擬作為整體驗證策略的一部分（參見第9.33段iii）”的描述；中國對灌裝數(shù)量的描述更細致，生產(chǎn)批量大于10000支時，模擬灌裝數(shù)量不得低于10000支。

第九章  滅菌工藝和滅菌方法

對應PIC/S無菌附錄的第8章。

內(nèi)容基本一致，詳略程度有差異：征求意見稿對于指示劑的使用未采用PIC/S的描述：如果使用了BI，應采取嚴格的預防措施，以避免將微生物污染轉(zhuǎn)移至生產(chǎn)或其它檢驗過程；僅BI結(jié)果不應代替其它關(guān)鍵參數(shù)和工藝設計要素；指示劑僅顯示滅菌工藝過程已經(jīng)發(fā)生，并不指示產(chǎn)品的無菌性或指示產(chǎn)品已達到要求的無菌保證水平；

不同要求：在輻射滅菌章節(jié)中，PIC/S強調(diào)，輻射滅菌主要用于熱敏感物料和產(chǎn)品的滅菌。紫外線照射不是可接受的滅菌方法；征求意見稿對輻射滅菌列出了詳細要求（保留了原附錄的描述），其要求與PIC/S GMP附錄12藥品生產(chǎn)中電離輻射的應用基本一致。中國還強調(diào)：生物指示劑可作為一種附加的監(jiān)控手段。

第十章  生產(chǎn)特定技術(shù)

對應PIC/S無菌附錄的第8章，多數(shù)條款一致，針對吹灌封技術(shù)，征求意見稿中還強調(diào)BFS環(huán)境監(jiān)測的靜態(tài)和動態(tài)微生物和懸浮粒子均需滿足相應潔凈級別的限度要求。

第十一章  質(zhì)量控制

與PIC/S無菌附錄第10章一致。

第十二章  附則-術(shù)語：

不同要求：征求意見稿中共33個術(shù)語，其中“動態(tài)”“靜態(tài)”的定義均保留了原附錄的描述，與PIC/S無菌附錄的描述有差異，動態(tài)的定義中，中國為規(guī)定數(shù)量，PIC/S為最大數(shù)量人員，對于靜態(tài)，PIC/S還強調(diào)了所有公用設施（包括任何正常運行的HVAC）已安裝完成；主要（main）生產(chǎn)設備按規(guī)定安裝但未運行，而非中國定義中所有生產(chǎn)設備；征求意見稿中還有2個PIC/S中沒有的術(shù)語：（二十八）無菌生產(chǎn)區(qū)：指非最終滅菌產(chǎn)品采用無菌生產(chǎn)工藝的無菌操作所處的區(qū)域，該區(qū)域通常為A級。無菌生產(chǎn)工藝在本附錄中也稱作無菌生產(chǎn)；（三十二）藥品質(zhì)量體系（Pharmaceutical Quality System，PQS）：指為在質(zhì)量方面指導和控制制藥公司而建立的管理體系。（依據(jù)ICH Q10）

整體來看，本次修訂中85%的條款與PIC/S無菌附錄保持了一致。早在2023年3月，國家局核查中心組織各省局啟動與PIC/S GMP對標課題，通過GMP對比得出結(jié)論：中國藥品GMP與PIC/S的GMP在框架機構(gòu)、原則理念上基本一致，主要內(nèi)容基本等同。中國藥品GMP在生物制品批簽發(fā)管理、物料及取樣管理的操作要求、對于高致敏性高活性或毒性物質(zhì)控制等方面要求更詳細、更具體。有實質(zhì)差異的條款，主要集中在無菌藥品附錄。本次無菌附錄修訂也是我國申請加入PIC/S的重要工作之一。