本文介紹了光刻機結構及雙工件臺技術。

2024/10/29 更新 分類：科研開發 分享

本文介紹了光刻機成像系統及光學鍍膜技術。

2024/11/10 更新 分類：科研開發 分享

“對準標記”（Alignment Marks）成為光刻工藝中不可或缺的工具。它們是芯片上專門設計的標記，用于確保在多層工藝中完成精準對齊。

2025/05/16 更新 分類：科研開發 分享

套刻誤差是光刻工藝中最重要的概念之一，什么是套刻誤差呢？

2025/05/16 更新 分類：科研開發 分享

由imec和ASML組成的imec-ASML 聯合High NA實驗室在開發圖案化和蝕刻工藝、篩選新的光刻膠和底層材料、改進計量和光掩模技術方面取得了進展。

2022/05/12 更新 分類：科研開發 分享

最新消息，近日佳能（Canon）發布了一個名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導體制造設備，號稱通過納米壓印光刻（NIL）技術實現了目前最先進的半導體工藝。

2023/10/17 更新 分類：科研開發 分享

復旦大學完成了從材料到架構再到流片的全鏈條自主研發，成功研制出全球首款基于二維半導體材料的32位RISC-V架構微處理器。

2025/04/07 更新 分類：科研開發 分享

近日，日本半導體行業正在迎來一個重要的里程碑，Rapidus公司成為日本首家獲得極紫外(EUV)光刻設備的半導體公司。

2024/12/23 更新 分類：科研開發 分享

近日，有消息稱，ASML將于未來幾個月內推出用于2nm制程節點的芯片制造設備，將數值孔徑（NA）光學性能從0.33提高到0.55。

2023/12/21 更新 分類：科研開發 分享

今天為大家整理了電子電器、機動車、石油化工、醫療器械、醫藥等領域的新技術和研發新動向，歡迎持續關注

2018/08/08 更新 分類：科研開發 分享