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用于納米級(jí)表面形貌測(cè)量的光學(xué)顯微測(cè)頭

嘉峪檢測(cè)網(wǎng)        2024-07-20 19:48

   摘 要:為了滿(mǎn)足納米級(jí)表面形貌樣板的高精度非接觸測(cè)量需求,研制了一種高分辨力光學(xué)顯微測(cè)頭。以激光全息單元為光源和信號(hào)拾取器件,利用差動(dòng)光斑尺寸變化探測(cè)原理,建立了微位移測(cè)量系統(tǒng),結(jié)合光學(xué)顯微成像系統(tǒng),形成了高分辨力光學(xué)顯微測(cè)頭。將該測(cè)頭應(yīng)用于納米三維測(cè)量機(jī),對(duì)臺(tái)階高度樣板和一維線(xiàn)間隔樣板進(jìn)行了測(cè)量實(shí)驗(yàn)。結(jié)果表明:該光學(xué)顯微測(cè)頭結(jié)合納米三維測(cè)量機(jī)可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)表面形貌樣板的可溯源測(cè)量,具有掃描速度快、測(cè)量分辨力高、結(jié)構(gòu)緊湊和非接觸測(cè)量等優(yōu)點(diǎn),對(duì)解決納米級(jí)表面形貌測(cè)量難題具有重要實(shí)用價(jià)值。

 

  關(guān)鍵詞:納米測(cè)量;激光全息單元;位移;光學(xué)顯微測(cè)頭;納米級(jí)表面形貌

 

引言

 

  隨著超精密加工技術(shù)的發(fā)展和各種微納結(jié)構(gòu)的廣泛應(yīng)用,納米三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)等精密測(cè)量?jī)x器受到了重點(diǎn)關(guān)注。國(guó)內(nèi)外一些研究機(jī)構(gòu)研究開(kāi)發(fā)了納米測(cè)量機(jī),并開(kāi)展微納結(jié)構(gòu)測(cè)量[1-4]。作為一個(gè)高精度開(kāi)放型測(cè)量平臺(tái),納米測(cè)量機(jī)可以兼容各種不同原理的接觸式測(cè)頭和非接觸式測(cè)頭[5-6]。測(cè)頭作為納米測(cè)量機(jī)的核心部件之一,在實(shí)現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)幾何參數(shù)的高精度測(cè)量中發(fā)揮著重要作用。原子力顯微鏡等高分辨力測(cè)頭的出現(xiàn),使得納米測(cè)量機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜微納結(jié)構(gòu)的高精度測(cè)量[7-8],但由于其測(cè)量速度較慢,對(duì)測(cè)量環(huán)境要求很高,不適用于大范圍快速測(cè)量。而光學(xué)測(cè)頭從原理上可以提高掃描測(cè)量速度,同時(shí)作為一種非接觸式測(cè)頭,還可以避免損傷樣品表面,因此,在微納米表面形貌測(cè)量中有其獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。在光學(xué)測(cè)頭研制中,激光聚焦法受到國(guó)內(nèi)外研究者的青睞,德國(guó)SIOS公司生產(chǎn)的納米測(cè)量機(jī)就包含一種基于光學(xué)像散原理的激光聚焦式光學(xué)測(cè)頭,國(guó)內(nèi)也有一些大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)開(kāi)展了此方面的研究[9-11]。這些測(cè)頭主要基于像散和差動(dòng)光斑尺寸變化檢測(cè)原理進(jìn)行離焦檢測(cè)[12-13]。在CD和DVD播放器系統(tǒng)中常用的激光全息單元已應(yīng)用于微位移測(cè)量[14-15],其在納米測(cè)量機(jī)光學(xué)測(cè)頭的研制中也具有較好的實(shí)用價(jià)值。針對(duì)納米級(jí)表面形貌的測(cè)量需求,本文研制了一種基于激光全息單元的高分辨力光學(xué)顯微測(cè)頭,應(yīng)用于自主研制的納米三維測(cè)量機(jī),可實(shí)現(xiàn)被測(cè)樣品的快速瞄準(zhǔn)和測(cè)量。

 

1、激光全息單元的工作原理

 

  激光全息單元是由半導(dǎo)體激光器(LD)、全息光學(xué)元件(HOE)、光電探測(cè)器(PD)和信號(hào)處理電路集成的一個(gè)元件,最早應(yīng)用于CD和DVD播放器系統(tǒng)中,用來(lái)讀取光盤(pán)信息并實(shí)時(shí)檢測(cè)光盤(pán)的焦點(diǎn)誤差,其工作原理如圖1所示。LD發(fā)出激光束,在出射光窗口處有一個(gè)透明塑料部件,其內(nèi)表面為直線(xiàn)條紋光柵,外表面為曲線(xiàn)條紋全息光柵,兩組光柵相互交叉,外表面光柵用于產(chǎn)生焦點(diǎn)誤差信號(hào)。LD發(fā)出的激光束在光盤(pán)表面反射回來(lái)后,經(jīng)全息光柵產(chǎn)生的±1級(jí)衍射光,分別回到兩組光電探測(cè)器P1~P5和P2~P10上。當(dāng)光盤(pán)上下移動(dòng)時(shí),左右兩組光電探測(cè)器上光斑面積變化相反,根據(jù)這種現(xiàn)象產(chǎn)生焦點(diǎn)誤差信號(hào)。這種測(cè)量方式稱(chēng)為差動(dòng)光斑尺寸變化探測(cè),焦點(diǎn)誤差信號(hào)可以表示為

 

 

  根據(jù)焦點(diǎn)誤差信號(hào),即可判斷光盤(pán)離焦量。

 

圖1 激光全息單元

 

  根據(jù)上述原理,本文設(shè)計(jì)了高分辨力光學(xué)顯微測(cè)頭的激光全息測(cè)量系統(tǒng)。

 

2、光學(xué)顯微測(cè)頭設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)

 

  光學(xué)顯微測(cè)頭由激光全息測(cè)量系統(tǒng)和光學(xué)顯微成像系統(tǒng)兩部分組成,前者用于實(shí)現(xiàn)被測(cè)樣品微小位移的測(cè)量,后者用于對(duì)測(cè)量過(guò)程進(jìn)行監(jiān)測(cè),以實(shí)現(xiàn)被測(cè)樣品表面結(jié)構(gòu)的非接觸瞄準(zhǔn)與測(cè)量。

 

  2.1 激光全息測(cè)量系統(tǒng)設(shè)計(jì)

 

  光學(xué)顯微測(cè)頭的光學(xué)系統(tǒng)如圖2所示,其中,激光全息測(cè)量系統(tǒng)由激光全息單元、透鏡1、分光鏡1和顯微物鏡組成。測(cè)量時(shí),由激光全息單元中的半導(dǎo)體激光器發(fā)出的光束經(jīng)過(guò)透鏡1變?yōu)槠叫泄馐摴馐环止忡R1反射后,通過(guò)顯微物鏡匯聚在被測(cè)件表面。從被測(cè)件表面反射回來(lái)的光束反向通過(guò)顯微物鏡,一小部分光透過(guò)分光鏡1用于觀(guān)察,大部分光被分光鏡1反射,通過(guò)透鏡1,匯聚到激光全息單元上,被全息單元內(nèi)部集成的光電探測(cè)器接收。這樣,就將被測(cè)樣品表面瞄準(zhǔn)點(diǎn)的位置信息轉(zhuǎn)換為電信號(hào)。在光學(xué)顯微測(cè)頭設(shè)計(jì)中選用的激光全息單元為松下HUL7001,激光波長(zhǎng)為790 nm。

 

圖2 光學(xué)顯微測(cè)頭光學(xué)系統(tǒng)示意圖

 

  當(dāng)被測(cè)樣品表面位于光學(xué)顯微測(cè)頭的聚焦面時(shí),反射光沿原路返回激光全息單元,全息單元內(nèi)兩組光電探測(cè)器接收到的光斑尺寸相等,焦點(diǎn)誤差信號(hào)為零。當(dāng)樣品表面偏離顯微物鏡聚焦面時(shí),由樣品表面反射回來(lái)的光束傳播路徑會(huì)發(fā)生變化,進(jìn)入激光全息單元的反射光在兩組光電探測(cè)器上的分布隨之發(fā)生變化,引起激光全息單元焦點(diǎn)誤差信號(hào)的變化。當(dāng)被測(cè)樣品在顯微物鏡焦點(diǎn)以?xún)?nèi)時(shí),焦點(diǎn)誤差信號(hào)小于零,而當(dāng)被測(cè)樣品在顯微物鏡焦點(diǎn)以外時(shí),焦點(diǎn)誤差信號(hào)大于零。因此,利用在聚焦面附近激光全息單元輸出電壓與樣品位移量的單調(diào)對(duì)應(yīng)關(guān)系,通過(guò)測(cè)量激光全息單元的輸出電壓,即可求得樣品的位移量。

 

  2.2 顯微物鏡參數(shù)的選擇

 

  在激光全息測(cè)量系統(tǒng)中,顯微物鏡是一個(gè)重要的光學(xué)元件,其光學(xué)參數(shù)直接關(guān)系著光學(xué)顯微測(cè)頭的分辨力。首先,顯微物鏡的焦距直接影響測(cè)頭縱向分辨力,在激光全息單元、透鏡1和顯微物鏡之間的位置關(guān)系保持不變的情況下,對(duì)于同樣的樣品位移量,顯微物鏡的焦距越小,樣品上被測(cè)點(diǎn)經(jīng)過(guò)顯微物鏡和透鏡1所成像的位移越大,所引起激光全息單元中光電探測(cè)器的輸出信號(hào)變化量也越大,即測(cè)量系統(tǒng)縱向分辨力越高。另外,顯微物鏡的數(shù)值孔徑對(duì)測(cè)頭的分辨力也有影響,在光波長(zhǎng)一定的情況下,顯微物鏡的數(shù)值孔徑越大,其景深越小,測(cè)頭縱向分辨力越高。同時(shí),顯微物鏡數(shù)值孔徑越大,激光束會(huì)聚的光斑越小,系統(tǒng)橫向分辨力也越高。綜合考慮測(cè)頭分辨力和工作距離等因素,在光學(xué)顯微測(cè)頭設(shè)計(jì)中選用大恒光電GCO-2133長(zhǎng)工作距物鏡,其放大倍數(shù)為40,數(shù)值孔徑為0.6,工作距離為3.33 mm。

 

  2.3 定焦顯微測(cè)頭的實(shí)現(xiàn)

 

  除激光全息測(cè)量系統(tǒng)外,光學(xué)顯微測(cè)頭還包括一個(gè)光學(xué)顯微成像系統(tǒng),該系統(tǒng)由光源、顯微物鏡、透鏡2、透鏡3、分光鏡1、分光鏡2和CCD相機(jī)組成。光源將被測(cè)樣品表面均勻照明,被測(cè)樣品通過(guò)顯微物鏡、分光鏡1、透鏡2和分光鏡2,成像在CCD相機(jī)接收面上。為了避免光源發(fā)熱對(duì)測(cè)量系統(tǒng)的影響,采用光纖傳輸光束將照明光引入顯微成像系統(tǒng)。通過(guò)CCD相機(jī)不僅可以觀(guān)察到被測(cè)樣品表面的形貌,而且也可以觀(guān)察到來(lái)自激光全息單元的光束在樣品表面的聚焦情況。

 

  根據(jù)圖2所示原理,通過(guò)光學(xué)元件選購(gòu)、機(jī)械加工和信號(hào)放大電路設(shè)計(jì),制作了光學(xué)顯微測(cè)頭,如圖3所示。從結(jié)構(gòu)上看,該測(cè)頭具有體積小、集成度高的優(yōu)點(diǎn)。將該測(cè)頭安裝在納米測(cè)量機(jī)上,編制相應(yīng)的測(cè)量軟件,可用于被測(cè)樣品的快速瞄準(zhǔn)和高分辨力非接觸測(cè)量。

 

圖3 光學(xué)顯微測(cè)頭結(jié)構(gòu)

 

3、測(cè)量實(shí)驗(yàn)與結(jié)果分析

 

  為了檢驗(yàn)光學(xué)顯微測(cè)頭的功能,將該測(cè)頭安裝在納米三維測(cè)量機(jī)上,使顯微物鏡的光軸沿測(cè)量機(jī)的Z軸方向,對(duì)其輸出信號(hào)的電壓與被測(cè)樣品的離焦量之間的關(guān)系進(jìn)行了標(biāo)定,并用其對(duì)臺(tái)階高度樣板和一維線(xiàn)間隔樣板進(jìn)行了測(cè)量[16]。所用納米三維測(cè)量機(jī)在25 mm×25 mm×5 mm的測(cè)量范圍內(nèi),空間分辨力可達(dá)0.1 nm。實(shí)驗(yàn)在(20±0.5)℃的控溫實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下進(jìn)行。

 

  3.1 測(cè)頭輸出電壓與位移關(guān)系的建立

 

  為了獲得光學(xué)顯微測(cè)頭的輸出電壓與被測(cè)表面位移(離焦量)的關(guān)系,將被測(cè)樣板放置在納米三維測(cè)量機(jī)的工作臺(tái)上,用精密位移臺(tái)帶動(dòng)被測(cè)樣板沿測(cè)量光軸方向移動(dòng),通過(guò)納米測(cè)量機(jī)采集位移數(shù)據(jù),同時(shí)記錄測(cè)頭輸出電壓信號(hào)。圖4所示為被測(cè)樣板在測(cè)頭聚焦面附近由遠(yuǎn)及近朝測(cè)頭方向移動(dòng)時(shí)測(cè)頭輸出電壓與樣品位移的關(guān)系。

 

圖4 測(cè)頭電壓與位移的關(guān)系

 

  由圖4可以看出,光學(xué)顯微測(cè)頭的輸出電壓與被測(cè)樣品位移的關(guān)系呈S形曲線(xiàn),與第1節(jié)中所述的通過(guò)差動(dòng)光斑尺寸變化測(cè)量離焦量的原理相吻合。當(dāng)被測(cè)樣板遠(yuǎn)離光學(xué)顯微測(cè)頭的聚焦面時(shí),電壓信號(hào)近似常數(shù)。當(dāng)被測(cè)樣板接近測(cè)頭的聚焦面時(shí),電壓開(kāi)始增大,到達(dá)最大值后逐漸減小;當(dāng)樣板經(jīng)過(guò)測(cè)頭聚焦面時(shí),電壓經(jīng)過(guò)初始電壓值,可認(rèn)為是測(cè)量的零點(diǎn);當(dāng)樣品繼續(xù)移動(dòng)離開(kāi)聚焦面時(shí),電壓繼續(xù)減小,到達(dá)最小值時(shí),電壓又逐漸增大,回到穩(wěn)定值。在電壓的峰谷值之間,曲線(xiàn)上有一段線(xiàn)性較好的區(qū)域,在測(cè)量中選擇這段區(qū)域作為測(cè)頭的工作區(qū),對(duì)這段曲線(xiàn)進(jìn)行擬合,可以得到測(cè)頭電壓與樣板位移的關(guān)系。在圖4中所示的3 μm工作區(qū)內(nèi),電壓與位移的關(guān)系為

 

 

  式中:U為激光全息單元輸出電壓;?d為偏離聚焦面的距離。

 

  3.2 臺(tái)階高度測(cè)量試驗(yàn)

 

  在對(duì)光學(xué)顯微測(cè)頭的電壓-位移關(guān)系進(jìn)行標(biāo)定后,用安裝光學(xué)顯微測(cè)頭的納米三維測(cè)量機(jī)對(duì)臺(tái)階高度樣板進(jìn)行了測(cè)量。

 

  在測(cè)量過(guò)程中,將一塊硅基SHS-1 μm臺(tái)階高度樣板放置在納米三維測(cè)量機(jī)的工作臺(tái)上,首先調(diào)整樣板位置,通過(guò)CCD圖像觀(guān)察樣板,使被測(cè)臺(tái)階的邊緣垂直于工作臺(tái)的X軸移動(dòng)方向,樣板表面位于光學(xué)顯微測(cè)頭的聚焦面,此時(shí)測(cè)量光束匯聚在被測(cè)樣板表面,如圖5所示。然后,用工作臺(tái)帶動(dòng)樣板沿X方向移動(dòng),使測(cè)量光束掃過(guò)樣板上的臺(tái)階,同時(shí)記錄光學(xué)顯微測(cè)頭的輸出信號(hào)。最后,對(duì)測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,計(jì)算臺(tái)階高度。

 

圖5 被測(cè)樣板表面圖像

 

  臺(tái)階高度樣板的測(cè)量結(jié)果如圖6所示,根據(jù)檢定規(guī)程[17]對(duì)測(cè)量結(jié)果進(jìn)行處理,得到被測(cè)樣板的臺(tái)階高度為1.005 μm。與此樣板的校準(zhǔn)結(jié)果1.012 μm相比,測(cè)量結(jié)果符合性較好,其微小偏差反映了由測(cè)量時(shí)溫度變化、干涉儀非線(xiàn)性和樣板不均勻等因素引入的測(cè)量誤差。

 

圖6 臺(tái)階樣板測(cè)量結(jié)果

 

  3.3 一維線(xiàn)間隔測(cè)量試驗(yàn)

 

  在測(cè)量一維線(xiàn)間隔樣板的過(guò)程中,將一塊硅基LPS-2 μm一維線(xiàn)間隔樣板放置在納米測(cè)量機(jī)的工作臺(tái)上,使測(cè)量線(xiàn)沿X軸方向,樣板表面位于光學(xué)顯微測(cè)頭的聚焦面。然后,用工作臺(tái)帶動(dòng)樣板沿X方向移動(dòng),使測(cè)量光束掃過(guò)線(xiàn)間隔樣板上的刻線(xiàn),同時(shí)記錄納米測(cè)量機(jī)的位移測(cè)量結(jié)果和光學(xué)顯微測(cè)頭的輸出信號(hào)。最后,對(duì)測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,測(cè)量結(jié)果如圖7所示。

 

 

  根據(jù)檢定規(guī)程[17]對(duì)一維線(xiàn)間隔測(cè)量結(jié)果進(jìn)行處理,得到被測(cè)樣板的刻線(xiàn)間距為2.004 μm,與此樣板的校準(zhǔn)結(jié)果2.002 μm相比,一致性較好。

 

  3.4 分析與討論

 

  由光學(xué)顯微測(cè)頭輸出電壓與被測(cè)表面位移關(guān)系標(biāo)定實(shí)驗(yàn)的結(jié)果可以看出:利用在測(cè)頭聚焦面附近測(cè)頭輸出電壓與樣品位移量的單調(diào)對(duì)應(yīng)關(guān)系,通過(guò)測(cè)量測(cè)頭的輸出電壓變化,即可求得樣品的位移量。在圖4所示曲線(xiàn)中,取電壓-位移曲線(xiàn)上測(cè)頭聚焦面附近的3 μm位移范圍作為工作區(qū),對(duì)應(yīng)的電壓變化范圍約為0.628 V。根據(jù)對(duì)電壓測(cè)量分辨力和噪聲影響的分析,在有效量程內(nèi)測(cè)頭的分辨力可以達(dá)到納米量級(jí)。

 

  臺(tái)階高度樣板和一維線(xiàn)間隔樣板測(cè)量實(shí)驗(yàn)的結(jié)果表明:光學(xué)顯微測(cè)頭可以應(yīng)用于納米三維測(cè)量機(jī),實(shí)現(xiàn)微納米表面形貌樣板的快速定位和微小位移測(cè)量。通過(guò)用納米測(cè)量機(jī)的激光干涉儀對(duì)光學(xué)顯微測(cè)頭的位移進(jìn)行校準(zhǔn),可將測(cè)頭的位移測(cè)量結(jié)果溯源到穩(wěn)頻激光的波長(zhǎng)。實(shí)驗(yàn)過(guò)程也證明:光學(xué)顯微測(cè)頭具有掃描速度快、測(cè)量分辨力高和抗干擾能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),適用于納米表面形貌的非接觸測(cè)量。

 

4、結(jié)論

 

  本文介紹了一種用于納米級(jí)表面形貌測(cè)量的高分辨力光學(xué)顯微測(cè)頭。在測(cè)頭設(shè)計(jì)中,采用激光全息單元作為位移測(cè)量系統(tǒng)的主要元件,根據(jù)差動(dòng)光斑尺寸變化原理實(shí)現(xiàn)微位移測(cè)量,結(jié)合光學(xué)顯微系統(tǒng),形成了結(jié)構(gòu)緊湊、集測(cè)量和觀(guān)察功能于一體的高分辨力光學(xué)顯微測(cè)頭。將該測(cè)頭安裝在納米三維測(cè)量機(jī)上,對(duì)臺(tái)階高度樣板和一維線(xiàn)間隔樣板進(jìn)行了測(cè)量實(shí)驗(yàn),結(jié)果表明:該光學(xué)顯微測(cè)頭可實(shí)現(xiàn)預(yù)期的測(cè)量功能,位移測(cè)量分辨力可達(dá)到納米量級(jí)。下一步將通過(guò)多種微納米樣板測(cè)量實(shí)驗(yàn),進(jìn)一步考察和完善測(cè)頭的結(jié)構(gòu)和性能,使其更好地適合納米三維測(cè)量機(jī),應(yīng)用于微納結(jié)構(gòu)幾何參數(shù)的非接觸測(cè)量。

 

 

 

 
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