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嘉峪檢測網 2024-01-16 11:14
工藝 | 用途 | 替代方案 |
流程 | ||
光刻 | 光刻膠 | 富士膠片Krf (248 nm)、DOWTM光刻膠已滿足PFOA或PFOS Free,但PFAS可替代情況尚不明確,部分產品中可用碳氫基潤滑脂、二硫化鉬、石墨替代 |
光刻膠 | 無替代方案 | |
(光敏劑) | ||
光刻膠(光致產酸劑,PAG) | 能形成強酸的無氟替代品,如芳香族PAG、雜芳香族PAG(三苯基硫鎓苯并[b]噻吩- 2-磺酸,4(或7) -硝基-離子(1-)(TPS TBNO))、不含氟的PAG | |
光刻膠 | 無替代方案 | |
(猝滅劑) | ||
顯影 | 顯影液添加劑 | 無氟表面活性劑的專利已見報道,但可替代情況尚不明確 |
清洗 | 漂洗液添加劑 | 可替代情況尚不明確 |
刻蝕 | 干法刻蝕劑、 | 能形成強酸、具有低表面張力、低折射率的替代品 |
濕法刻蝕劑 | ||
清潔刻蝕劑 | 可替代情況尚不明確 | |
晶圓減薄 | 載體晶圓表面的不粘涂層 | 低表面張力的替代品 |
焊接 | 氣相焊接 | 無替代方案 |
傳熱介質 | ||
其他 | 減反射膜 | AZ Aquatar 8(氟烷酸酯)、 |
DOWTM減反射膜已滿足PFOA或PFOS Free,但PFAS可替代情況尚不明確 | ||
微機電系統(MEMS)加速度計、 | 無替代方案 | |
MEMS圖像傳感器 | ||
模具、管道、化學容器、反應表面等惰性元件 | 無氟聚合物,如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺等 | |
半導體器件冷卻劑 | 礦物油、合成油、天然油、碳氫化合物流體 | |
真空泵工作液 | 性質穩定、非反應性的替代品 |
來源:SGS限用物質測試服務