X射線散射和熒光測量數據的結合可以促使周期性納米結構的幾何形狀得以無損重建。研究人員為了應用這種利用同步輻射的新型混合技術，建了一個小型測量室，并在BESSY II投入使用。
圖示：氮化硅晶格樣品的混合測量結果。改變方位角，在680 eV（電子伏特）的激發能下，測量氮和氧的熒光（a），以及前三個衍射級的散射（b）。圖（a）還顯示了在不同方位角下該結構的晶胞內局部場分布的模擬情況。
典型的GISAXS（掠入射小角X射線散射）測量是在樣品上的輻射入射角很平的情況下進行的。另一方面，在極紫外線（EUV）或軟X射線光譜范圍內，對結構化樣品的輻射散射的測量可以在相對較大的入射角下進行，最高可達30°（相對于表面的測量），因為所使用材料的反射率一般在這個角度比較高。大的入射角具有兩個主要優勢：首先，樣品上的光斑范圍縮小了，即使是相對較小的結構化區域（100µm²-）也可以進行研究，這與半導體行業的樣品有關。其次，如今可以在測量室中整合X射線熒光的激發和檢測。結合X射線散射，現在有了第二個互補的信息渠道，可以確定樣品的元素分布。通過使用作為重建測量標準的亞硝酸硅晶格樣品，就能運用新儀器首次演示這種混合測量方法。
