國際標(biāo)準(zhǔn)化組織（ISO）最近發(fā)布了一項標(biāo)準(zhǔn)，該標(biāo)準(zhǔn)為納米技術(shù)領(lǐng)域提供了重要的指南，特別是在掃描電子顯微鏡（SEMs）的使用方面：ISO 19749:2021《納米技術(shù)——通過掃描電子顯微鏡測量顆粒大小和形狀分布》。

測量納米顆粒的粒度和形狀對于了解其性能和在許多應(yīng)用中的潛在用途至關(guān)重要。本項國際標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)介紹了使用掃描電子顯微鏡（SEM）進(jìn)行數(shù)據(jù)收集和分析，以確定納米顆粒的大小和形狀，其結(jié)果具有高度可重復(fù)性。掃描電子顯微鏡通過在表面掃描聚焦的電子束產(chǎn)生圖像，并傳遞各種信號來指示電子束中的電子如何與材料相互作用，從而提供有關(guān)材料表面組成和形貌的重要信息。掃描電子顯微鏡在許多研究、開發(fā)和制造領(lǐng)域，包括納米技術(shù)領(lǐng)域都是不可或缺的，并得到了廣泛的應(yīng)用。

新標(biāo)準(zhǔn)涉及離散和聚集納米物體（納米尺度上至少有一個維度的材料，即在1nm到100nm范圍內(nèi)）的兩個形態(tài)屬性——大小和形狀。此外，ISO標(biāo)準(zhǔn)將得到廣泛應(yīng)用，因為世界范圍內(nèi)使用了許多掃描電子顯微鏡(SME)，使其成為納米尺度測量不可或缺的“主力軍”。

ISO 19749是由ISO/TC229“納米技術(shù)”技術(shù)委員會的“測量和表征”第二聯(lián)合工作組（JWG2）制定。該項目是由NIST的安德拉斯·弗拉達(dá)爾（Andras Vladar）博士（美國）和JEOL的佐藤友志（Tomoshige Sato）博士（日本）牽頭，來自法國、德國、日本和墨西哥的國際專家為其做出了重要貢獻(xiàn)。

ANSI認(rèn)可的對口ISO/TC 229“納米技術(shù)”技術(shù)委員會主席弗拉基米爾·穆拉肖夫（Vladimir Murashov）說道：“隨著ISO 19749:2021的發(fā)布，美國對口ISO TC 229的技術(shù)咨詢小組（TAG）繼續(xù)牽頭制定以嚴(yán)格描述納米顆粒的兩個最基本特征（即大小和形狀）等基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)。這些基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)對于進(jìn)一步推進(jìn)研究和開發(fā)是必要的，最終目標(biāo)是釋放納米技術(shù)的巨大潛力，以解決世界面臨的最緊迫挑戰(zhàn)。”

本標(biāo)準(zhǔn)作為ISO 21363《納米技術(shù)——通過透射電子顯微鏡測量顆粒大小和形狀分布》的配套文件，于2020年出版，由已故的埃里克·格魯克（Eric Grulke）博士牽頭制定。